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                  鋁氧化的工藝流程

                  文章出處:滄州鋁氧化  發布時間:2021-08-31 08:56

                  鋁氧化的工藝流程:1上架;水洗;低溫拋光。2磨砂料及磨砂電泳料氧化。3著色料及著色電泳料氧化。
                   
                  二、上料:
                  1.型材上料前應將吊桿接觸面打磨干凈,并按標準支數上料,其計算公式:上料支數=標準電流標準電流密度單支型材面積
                  2.上架支數的考慮原則:a、硅機容量利用率不大于95%;b、電流密度取1.0—1.2A/dm;c、型材形狀和兩支型材之間留必要的間隙;
                  3.氧化時間的計算:氧化時間(t)=膜厚K·電流密度K為電解常數,取0.26—0.32,t單位為分鐘;
                  4.上排時必須按照《型材面積及上排支數表》規定的支數上架;
                  5.為了便于排液和排氣,上排捆扎時應傾斜,傾斜度5°為宜;
                  6.兩端可超出導電桿10—20mm,最多不得大于50mm。
                   
                  三、低溫拋光工藝
                  1.低溫拋光槽中低溫拋光劑濃度控制為總酸25—30g/l,最低≥15g/l;
                  2.拋光槽溫20-30℃不得低于20℃,拋光時間90—200s;
                  3.提架傾斜,滴凈殘液后,迅速放入清水槽中漂洗,經兩道水洗后迅速放入氧化槽氧化,在水槽中停留時間不應大于3分鐘;
                  4.低溫拋光材料在拋光前不得進行其它方式的處理,也不能將其它槽液帶入拋光槽中。

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